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硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法 (GB/T 19444-2025)

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标准号GB/T 19444-2025状态

发布于:2025-06-30

实施于:2026-01-01

标准名:硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法

标准号:GB/T 19444-2025

全部代替标准:GB/T 19444-2004

标准类别:方法

中国标准分类号:H 21

国际标准分类号: 77.040 77 冶金,77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准委

国家标准《硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委。

主要起草单位 麦斯克电子材料股份有限公司、浙江中晶科技股份有限公司、隆基绿能科技股份有限公司、内蒙古中环晶体材料有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、山东有研艾斯半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、浙大宁波理工学院。

主要起草人 方丽霞 、陈卫群 、姚献朋 、黄笑容 、寇文辉 、王新社 、郭红强 、刘丽娟 、肖世豪 、朱晓彤 、张海英 、王江华 、尚海波 、章金兵 。

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