标准号T/CEMIA 036-2023状态
发布日期：2023年11月06日
实施日期：2023年11月30日
半导体显示用高碱浓度负胶显影液基本信息
标准编号：T/CEMIA 036—2023
英文标题：High alkali concentration negative photoresist developer for semiconductor display
国际标准分类号：31-030
中国标准分类号：L 90
国民经济分类：C398 电子元件及电子专用材料制造
起草人：刘小勇、侯琳熙、姚慧君、田博、肖龙强、黄晓莉、黄子勗、房龙翔、陈泽生、肖小江、邱小真、叶鑫煌、李丛香、吴玲玲。
起草单位：福建省佑达环保材料有限公司、福州大学、福建华佳彩有限公司。
范围：本文件适用于由氢氧化钾、表面活性剂和水组成，其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显示用高碱浓度负胶显影液。此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的显影，及薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）或有机发光二极管显示器（OLED）彩膜工艺光刻胶的显影。
内容概括：本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语、技术要求、检验方法、检验规则、标志及包装、运输、贮存和安全事项。……