当前位置:首页  标准  推荐国标内容详情

重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法 (GB/T 14847-2025)

标准号GB/T 14847-2025状态

发布于:2025-10-31

实施于:2026-05-01

重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法基本信息

标准号:GB/T 14847-2025

全部代替标准:GB/T 14847-2010

标准类别:方法

中国标准分类号:H21

国际标准分类号: 77.040 77 冶金,77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准委

国家标准《重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委。

主要起草单位 浙江金瑞泓科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、南京盛鑫半导体材料有限公司、中电晶华(天津)半导体材料有限公司、山东有研艾斯半导体材料有限公司、西安龙威半导体有限公司、浙江大学、麦斯克电子材料股份有限公司、布鲁克(北京)科技有限公司、珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司、赛默飞世尔科技(中国)有限公司、上海优睿谱半导体设备有限公司、青海沅平新能源科技有限公司。

主要起草人 李慎重 、张海英 、李素青 、许峰 、梁兴勃 、蒋玉龙 、葛华 、李明达 、张宏浩 、马林宝 、马向阳 、刘丽娟 、贺东江 、赵跃 、方伟宇 、李云鹏 、庄育军 、韩云霄 、雷浩东 、袁文战 。

重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法 (GB/T 14847-2025)

声明:本站为网络服务提供者及网络索引服务平台资源索引自网络/用户分享,如有版权问题,请联系站方删除。

不能下载?资源帮助服务