集成电路 电磁发射测量 第3部分：辐射发射测量 表面扫描法 (GB/T 44937.3-2025)

标准号GB/T 44937.3-2025状态

发布于：2025-12-31

实施于：2026-07-01

集成电路 电磁发射测量 第3部分：辐射发射测量 表面扫描法基本信息

标准号：GB/T 44937.3-2025

标准类别：方法

中国标准分类号：L56

国际标准分类号： 31.200 31 电子学，31.200 集成电路、微电子学

归口单位：全国集成电路标准化技术委员会

执行单位：全国集成电路标准化技术委员会

主管部门：工业和信息化部（电子）

国家标准《集成电路 电磁发射测量 第3部分：辐射发射测量 表面扫描法》由TC599（全国集成电路标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为工业和信息化部（电子）。

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院、北京智芯微电子科技有限公司、海研芯（青岛）微电子有限公司、扬芯科技（深圳）有限公司、厦门海诺达科学仪器有限公司、中国合格评定国家认可中心、天津先进技术研究院、工业和信息化部电子第五研究所、浙江大学、南京容向测试设备有限公司、北京航空航天大学、北京国家新能源汽车技术创新中心有限公司、中山大学、深圳市中兴微电子技术有限公司、河南省电子信息产品质量检验技术研究院、江苏省质量和标准化研究院、中国信息通信研究院、南京师范大学、中家院（北京）检测认证有限公司、深圳硅山技术有限公司。

主要起草人 崔强 、龙跃 、付君 、阎照文 、褚瑞 、方文啸 、吴建飞 、杨红波 、王新才 、朱赛 、张学磊 、陈梅双 、刘佳 、梁吉明 、邵伟恒 、魏兴昌 、沈学其 、雷黎丽 、龙发明 、谢利涛 、杨博 、王紫任 、颜伟 、王芳 、韦寿德 。

集成电路 电磁发射测量 第3部分：辐射发射测量 表面扫描法 (GB/T 44937.3-2025)