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卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法 (SJ 21199-2016)

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标准号SJ 21199-2016状态

发布于:2016-12-14

实施于:2017-03-01

卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法基本信息

标准号:SJ 21199-2016

标准名称:卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法

英文名称:Technological verification procedures for horizontal plasma enhanced chemical vapor deposition equipment

发布部门:科技工业局

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