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化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻 (T/STIC 110080-2022)

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化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻 (T/STIC 110080-2022)

标准号T/STIC 110080-2022状态

发布日期:2022年07月30日

实施日期:2022年08月10日

化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻基本信息

标准编号:T/STIC 110080—2022

英文标题:Loose laboratory-grown diamond by chemical vapor deposition technique

国际标准分类号:39.060

中国标准分类号:D 59

国民经济分类:C243 工艺美术品制造

起草人:龚闯、满卫东、胡庆坡、韩初、杨春梅、杨武、骆海燕、高春燕、郑学东。

起草单位:上海征世科技股份有限公司、上海铂世光半导体科技有限公司、上海钲戴梦商贸有限公司、武汉工程大学材料科学与工程学院、方圆标志认证集团上海有限公司、上海市检验检测认证协会。

内容概括:本文件规定了化学气相沉积法(以下简称CVD)培育钻石裸钻的产品特性、技术要求、检验方法、检验规则、包装与标志等方面的内容。本文件适用于颜色级别为D~F色,净度级……

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