摘要LIJ电化学交流阻抗(EIS)方法研究了纳米钛／有机硅涂层在3．5％NaCI溶液中的交流阻抗谱特征。提出了不同丁．常规涂层的交流阻抗谱等效电路模型。纳米钛／有机硅涂层的交流阻抗在浸泡开始时即表现山三个时间常数，井一直保持互个时间常数。添加纳米钛后，在所研究的浸泡时间范闱内有机硅涂层的阻抗始终保持在较高的数值.(@www.guifan.net)
纳米钛有机硅涂层在3.5%NaCl溶液中的电化学行为
摘要LIJ电化学交流阻抗(EIS)方法研究了纳米钛／有机硅涂层在3．5％NaCI溶液中的交流阻抗谱特征。提出了不同丁．常规涂层的交流阻抗谱等效电路模型。纳米钛／有机硅涂层的交流阻抗在浸泡开始时即表现山三个时间常数，井一直保持互个时间常数。添加纳米钛后，在所研究的浸泡时间范闱内有机硅涂层的阻抗始终保持在较高的数值.(@www.guifan.net)
纳米钛有机硅涂层在3.5%NaCl溶液中的电化学行为