铜催化刻蚀制备V型槽绒面及其光学性能研究

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对铜催化刻蚀制备V型槽绒面及其光学性能进行了研究。通过铜催化刻蚀技术在硅表面形成V型槽结构，分析了刻蚀条件对绒面形貌的影响，并测试了其反射率等光学性能。结果表明，该方法能有效降低表面反射，增强光吸收，在光伏等领域具有应用潜力。