铸造多晶硅中底部阴影的形成分析-徐云飞

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本文主要分析了铸造多晶硅中底部阴影的形成原因及其对材料质量的影响。研究发现，底部阴影主要是由于硅料在凝固过程中，底部区域的热场分布不均匀，导致杂质和缺陷在此处富集。这些杂质和缺陷会形成光吸收中心，降低硅片的光电转换效率。通过优化铸造工艺参数，如控制冷却速率和改进热场设计，可以有效减轻底部阴影现象，提高多晶硅的均匀性和整体性能。