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半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验 (GB/T 45716-2025)

标准号GB/T 45716-2025状态

发布于:2025-05-30

实施于:2025-09-01

标准名:半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验

标准号:GB/T 45716-2025

标准类别:方法

中国标准分类号:L40

国际标准分类号: 31.080.01 31 电子学,31.080 半导体分立器件,31.080.01 半导体分立器件综合

归口单位:全国半导体器件标准化技术委员会

执行单位:全国半导体器件标准化技术委员会

主管部门:工业和信息化部(电子)

国家标准《半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验》由TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为工业和信息化部(电子)。

主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所、河北北芯半导体科技有限公司、上海交通大学、中科院微电子所、厦门芯阳科技股份有限公司、深圳市威兆半导体股份有限公司、浙江朗德电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所。

主要起草人 恩云飞 、高汭 、章晓文 、来萍 、柴智 、林晓玲 、陈义强 、周圣泽 、高金环 、任鹏鹏 、都安彦 、李伟聪 、陈磊 、冉红雷 。

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