IEC 63068-2:2019 半导体器件 - 功率器件用碳化硅同质外延片中缺陷的无损识别准则 - 第2部分:采用光学检测的缺陷测试方法
Semiconductor devices – Non-destructive recognition criteria of defects in silicon carbide homoepitaxial wafer for power devices - Part 2: Test method for defects using optical inspection
标准号:IEC 63068-2:2019
发布日期:2019-01-30
IEC63068-2:2019的适用范围为:本文件规定了用于评估半导体器件在电离辐射(如伽马射线、X射线)环境下耐受能力的测试方法,主要针对总剂量效应(TID)的测量与评价,适用于分立半导体器件和集成电路在辐射环境(如航天、核能、高能物理等应用场合)中的可靠性验证与质量鉴定。
半导体器件 - 功率器件用碳化硅同质外延片中缺陷的无损识别准则 - 第2部分:采用光学检测的缺陷测试方法 (IEC 63068-2:2019)