硅片表面织构化研究和应用

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硅片表面织构化是指通过化学刻蚀、机械加工或激光处理等方法，在硅片表面形成微米或纳米级的结构，如金字塔形、倒金字塔形或孔洞等。这一技术可降低表面反射率，增强光吸收效率，广泛应用于太阳能电池领域；同时能改善材料表面的润湿性、粘附性和抗反射性能，并拓展到传感器、微流控等器件中。研究重点在于控制织构的形貌、尺寸与均匀性，并解决加工过程对硅片电性能的影响，以平衡光学增益与机械强度。